山田 高幸 | 富士ゼロックス 研究本部 先端デバイス研究所
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概要
論文 | ランダム
- リウマチ学の更なる発展を
- 泡沫分離法によるフェノ-ルの除去
- 種々の触媒を用いる硫化ナトリウムの液相酸化反応の触媒活性および選択性
- 懸濁気泡塔における気-液接触反応の物質移動抵抗--パラジウム-アルミナ触媒によるα-メチルスチレンの水素化反応〔固体触媒による気-液接触反応に関する研究-6-〕
- 3.グラファイトへき開面上における希ガスの結晶成長(千葉大学理学部物理学教室,修士論文アブストラクト(1984年度))