ENDO Akira | Delft University of Technology

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概要

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• Delft University of Technologyの論文著者

Delft University of Technology | 論文

• 温湿度による含水率変化が伝統的ホゾ-込み栓接合部の接触応力度に及ぼす影響(第3報) : スギ圧縮込み栓を用いたホゾ栓接合部の引抜き強度性能評価
• C-2-67 負の透磁率を用いた表皮効果抑制の実験的検証(C-2. マイクロ波B(マイクロ波・ミリ波受動デバイス),一般セッション)
• C-2-66 導体/磁性体多層膜によるマイクロ波帯における表皮効果抑制(C-2. マイクロ波B(マイクロ波・ミリ波受動デバイス),一般セッション)
• 負の透磁率による高周波導体抵抗の低減に関する研究
• IDR定理をベースにした定常反復法の性能評価 (数値解析と数値計算アルゴリズムの最近の展開--RIMS研究集会報告集)

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