NAGANAWA HIROSHI | Institute of Microbial Chemistry, Kamiosaki, Shinagawa-ku
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概要
論文 | ランダム
- LUT型FPGA向けテクノロジ・マッピングにおける深さ制約下のLUT数削減手法(FPGA/設計事例,デザインガイア2007-VLSI設計の新しい大地を考える研究会-)
- LUT段数最小かつ個数極小なLUT型FPGA向けテクノロジ・マッピング(デザインガアイ2006-VLSI設計の新しい大地を考える研究会)
- LUT段数最小かつ個数極小なLUT型FPGA向けテクノロジ・マッピング(論理・回路設計,デザインガイア2006-VLSI設計の新しい大地を考える研究会)
- LUT段数最小かつ個数極小なLUT型FPGA向けテクノロジ・マッピング(論理・回路設計,デザインガイア2006-VLSI設計の新しい大地を考える研究会)
- 超硬合金における放電加工条件と表面微小クラック深さとの関連性