Kakinuma Hiroaki | Semiconductor Technology Laboratory, Oki Electric Industry Co., Ltd., 550–5 Higashiasakawa–cho, Hachioji, Tokyo 193, Japan
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概要
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論文 | ランダム
- 28aPS-55 ZnO薄膜における2光子吸収による高密度励起子発光のダイナミクス(28aPS 領域5ポスターセッション,領域5(光物性))
- 24aPS-56 ZnO薄膜における励起子-励起子散乱発光のダイナミクス(領域5ポスターセッション,領域5(光物性))
- 30aPS-53 ZnOエピタキシャル薄膜における高密度励起子状態のダイナミクス(領域5ポスターセッション)(領域5)
- 22pPSA-21 ZnO エピタキシャル薄膜における高密度光励起キャリアの緩和と拡散
- ZnOエピタキシーの最近の進展