兵間 賢吾 | 株式会社　IHI

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概要

• 同名の論文著者
• 株式会社　IHIの論文著者

論文 | ランダム

• 酸化チタンの高電界印加時の衝突励起現象とその応用
• 化学気相合成ダイヤモンド(100)の表面酸化過程の走査トンネル顕微鏡, 光電子放出顕微鏡及びX線光電子分光による評価
• トリメチルホスフィンを用いたリンドープ気相合成ダイヤモンド薄膜の作製と評価
• 高品質気相合成ダイヤモンド薄膜を用いた高電界印加型p-i-p素子の電気的特性
• 気相合成ダイヤモンド薄膜上におけるプラチナ薄膜の低温形態変化

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