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加藤 茂 | 日新電機 (株)
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日新電機 (株) | 論文
グロー放電を利用した炭素膜コーティング
P-CVD法により作製したB-Si-N系セラミックス薄膜の諸特性
イオン-ビームスパッタ法によるLn-Ba-Cu-O薄膜の作製
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