Nishimoto Yuko | Semiconductor Process Laboratory, 2–13–29 Kohnan, Minato–ku, Tokyo 108–0075, Japan
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概要
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- Semiconductor Process Laboratory, 2–13–29 Kohnan, Minato–ku, Tokyo 108–0075, Japanの論文著者
論文 | ランダム
- 機関室周辺のタンク構造の呼吸モード振動に関する実験的研究(その3)実験と強制振動解析との比較と固有振動数推定法に関する考察
- 2008E-G2-4 液位が変化する段重ねタンクの有孔水平仕切り板による振動特性制御に関する研究(一般講演(G2))
- 2008W-G2-1 機関室周辺の防撓タンク構造の呼吸モード振動に関する実験的研究(第2報)(一般講演(G2))
- 2008S-G3-26 タンク構造における呼吸モード振動の解析法と防振対策法に関する研究(一般講演(G3))
- 2008S-G3-15 モルタル法を用いた領域分割型FEM解析の収束性向上に関する研究(一般講演(G3))