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鈴木 憲一 | ナミックス (株) 開発部
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28a-YC-7 EB/光同層ミックス&マッチに対応したリソグラフィシミュレータの開発
28a-SZD-6 イオン性酸発生剤を用いた化学増幅型レジストの帯電緩和効果
26a-SZW-29 化学増幅型電子線ポジ型レジストの開発(2) : EB直描への適用
26a-SZW-28 化学増幅型電子線ポジ型レジストの開発(1) : 塩基性添加剤の検討
26a-SZW-6 代表図形法による微細パターン形成
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