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山田 昇 | 三菱化学 (株) 横浜総合研究所
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三菱化学 (株) 横浜総合研究所 | 論文
磁界変調記録用光磁気ディスク保護膜の検討
物理化学的手法による貴金属錯体の脱水素触媒作用の解明
Vaska型錯体のアルカン光脱水素触媒作用--水素脱離に及ぼすCO効果の中心金属間比較 (〔触媒学会〕第72回触媒討論会講演予稿)
IrCl(H)2(CO)(PR3)2錯体からの水素脱離反応に関する速度論的解析 (〔触媒学会〕第70回触媒討論会予稿)
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