冨安 良紀 | 愛知工業大院

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論文 | ランダム

• Characterization of thermally stable Ir-Ta alloy thin films deposited by sputtering
• Influence of oxygen flow ratio on the oxidation of Ti target and the formation process of TiO_2 films by reactive sputtering
• Optical and electrochromic properties of RF reactively sputtered WO_3 films
• Nb/Hf 2層陽極酸化膜キャパシタの電気的特性
• Ta-Zr合金による陽極酸化膜キャパシタの電気的特性に及ぼす熱処理温度と酸化膜厚低減の影響

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