横山 大志 | ＡＺ エレクトロニックマテリアルズ株式会社

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論文 | ランダム

• Influence of Substrate Biasing on (Ba, Sr)TiO_3 Films Prepared by Electron Cyclotron Resonance Plasma Sputtering
• Energy Distribution of Ions Incident onto a Dc-Biased Substrate in Electron Cyclotron Resonance Sputtering Plasma for SrTiO_3 Thin Film Preparation
• 44. 迷切術後の幽門輪運動について(第14回迷切研究会)
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• Morphology and Microstructure of Hard and Superhard Zr-Cu-N Nanocomposite Coatings

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