YOKOYAMA Naoki | Department of Geosciences, Geotechnology, and Materials Engineering for Resources, Graduate School of Engineering and Resource Science, Akita University
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概要
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- Department of Geosciences, Geotechnology, and Materials Engineering for Resources, Graduate School of Engineering and Resource Science, Akita Universityの論文著者
論文 | ランダム
- 研磨
- 32nm世代用CMP装置 : CoO/CoCベスト
- 多層配線デバイス製造を支える最新のCMP平坦化技術(半導体デバイスの平坦化技術)
- 21714 酸化膜CMP用光学式終点検出モニター(薄膜・計測,OS.12 機械工学が支援する微細加工技術(半導体・MEMS・NEMS))
- 20103 高感度・ナノ膜厚検知・CMP用渦電流式終点検出モニター(機械工学が支援する半導体製造技術,OS1 機械工学が支援する微細加工技術(半導体・MEMS・NEMS))