加藤 正雄 | 旭硝子株式会社フアイソ樹脂部
スポンサーリンク
概要
論文 | ランダム
- 65nmノード世代に向けたHigh-kゲート絶縁膜(HfSiON)のCMOSFET設計(VLSI回路, デバイス技術(高速, 低電圧, 低電力))
- D302 地上望遠鏡を用いた金星熱圏酸素分子大気光の観測(スペシャル・セッション「惑星大気の新しい観測と理論」)
- プラズマ酸化とプラズマ窒化を用いた、低消費電力CMOSデバイス向けHfSiONゲート絶縁膜の形成(ゲート絶縁膜,容量膜,機能膜及びメモリ技術)
- P-31 九州歯科大学付属病院内科外来患者の臨床統計学的検討
- D301 金星気象衛星の現状(スペシャル・セッション「惑星大気の新しい観測と理論」)