Katoh Takeo | Advanced Semiconductor Material and Device Development Center, Hanyang University, 17 Haengdang-Dong, Seoungdong-Gu, Seoul 133-791, Korea
スポンサーリンク
概要
- Katoh Takeoの詳細を見る
- 同名の論文著者
- Advanced Semiconductor Material and Device Development Center, Hanyang University, 17 Haengdang-Dong, Seoungdong-Gu, Seoul 133-791, Koreaの論文著者
論文 | ランダム
- 局部ボイド比についての一考察(ショートノート)
- 伝熱(講義・計測制御技術者のための基礎工学シリーズ・化学工学-3-)
- 飽和プール沸騰における発生蒸気ほうの挙動 : 第1報, 核沸騰および膜沸騰における挙動
- 垂直管内における気液二相流のボイド比分布
- 飽和プール沸騰における発生蒸気ほうの挙動-1,2-