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村上 静 | 東京菊地病院
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金属との反応による SiC セラミックス表面の溝加工(第3報) : SiC セラミックスと Ni 箔との反応層
金属との反応によるSiCセラミックス表面の溝加工(第2報) : SiCセラミックスとNi箔との反応
金属との反応によるSiCセラミックス表面の溝加工(第1報)
SiC多孔質体の通気性と機械的強度
B-21 複合型インピンジメント冷却構造に関する研究 : 流れ場の計測と数値シミュレーション(伝熱,一般講演)
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