宮田 典幸 | 産業技術総合研究所ナノエレクトロニクス研究部門
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概要
産業技術総合研究所ナノエレクトロニクス研究部門 | 論文
- 相変化記録膜の光超解像現象 : 巨大光学非線形現象の解明から次世代メモリーへ
- 超解像近接場構造を用いた光記録技術
- SC-1-2 平板型多層膜レンズの光波伝搬特性(SC-1.光新技術の理論的課題 : 近接場ナノ光学・フォトニック結晶・負屈折率媒質)
- 次世代ストレージ・メモリの最新動向
- 相変化光記録膜材料のコヒーレントフォノン分光と超高速光誘起構造変化(最近の研究から)