Noda Hiromasa | Central Research Laboratory, Hitachi Ltd., 1–280, Higashi–koigakubo, Kokubunji–shi, Tokyo 185, Japan
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概要
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論文 | ランダム
- 純粋C2F6中における電子輸送係数とC2F6分子の電子衝突断面積セット (特集:平成10年度若手セミナ-「放電プラズマを科学する」)
- 電子スウォーム法によるSi_2H_6分子の電子衝突断面積
- スウォーム
- Na-HeおよびNa-Ar混合気体中における電子移動速度の測定
- ルビジウム蒸気中における電子移動速度ならびに運動量変換断面積