Ohtsuka Hiroshi | Semiconductor Leading Edge Technologies, Inc., 292 Yoshida–cho, Totsuka–ku, Yokohama, Kanagawa 244, Japan
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概要
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- Semiconductor Leading Edge Technologies, Inc., 292 Yoshida–cho, Totsuka–ku, Yokohama, Kanagawa 244, Japanの論文著者
論文 | ランダム
- 100 Mg 粉末吹込による溶銑の脱硫(溶銑予備処理・転炉・介在物, 製鋼, 日本鉄鋼協会第 88 回(秋季)講演大会)
- 190 ESR 鋳塊中の軸方向の濃度分布(介在物・特殊製錬, 製鋼, 日本鉄鋼協会 第 86 回(秋季)講演大会)
- 122 ESR 溶鋼プール内の混合状態(特殊溶解・転炉・電炉, 製鋼, 日本鉄鋼協会第 84 回(秋季)講演大会)
- 72 小型 ESR 鋳塊における酸素の挙動(脱酸・介在物, 製鋼, 日本鉄鋼協会 第 81 回(春季)講演大会)
- 試合中の心理状態の診断法とその有効性