高村 仁 | 現在日本ゼオン株式会社中央研究所

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概要

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論文 | ランダム

• A 75 cm Hydrogen Bubble Chamber
• 総合報告 シリコンLSI新材料技術の現状と課題--フロントエンドプロセス
• 固相エピタキシー法によるSi(111)表面上のGe3次元島のコースニング過程 : エピタキシャル成長IV
• シリコン表面の初期酸化と水素
• 集束イオンビームを用いたナノチャネルMOSFETの作製とクーロンブロッケード現象

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