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伸田 清和 | NKK電子デバイス事業推進センター
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NKK電子デバイス事業推進センター | 論文
CO_2レーザ蒸着法によるアルミナ薄膜の作製
レーザ誘起プラズマに関する一考察 : 炭酸ガスレーザ溶接現象に関する研究(第二報)
溶込み深さおよびプラズマ発生挙動に及ぼす加工雰囲気の影響 : 炭酸ガスレーザ溶接現象に関する研究(第一報)
レーザPVD法による酸化物薄膜の形成 (フォーラム「膜形成プロセスとその応用」)
230 レーザ蒸着法によるアルミナ薄膜の作成
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