Tsuyuzaki Haruo | NTT LSI Laboratories, 3–1 Morinosato Wakamiya, Atsugi–shi, Kanagawa 243–01, Japan
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概要
論文 | ランダム
- タイトル無し
- 研究室へようこそ!京都大学工学研究科 中条善樹研究室
- 配位結合を利用して新規高分子化金属錯体をつくる (1997年の化学-2-)
- ビピリジル金属錯体形成を利用した高分子設計
- 2E17 相分離を抑制する有機高分子を含むゾルより調製したキセロゲル膜による気体の高選択性分離