広瀬 泰雄 | 東京都立大学工学部工業 化学科化学工学教室
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概要
論文 | ランダム
- 新しい分離場の設計と分析化学的展開(高度分離へのたゆまぬ挑戦)
- Ni/Si(111)およびNi/SiOx/Si(111)を用いたCOの吸着と解離の制御 (第60回触媒討論会特集号〔予稿〕)
- アイスクロマトグラフィー : 氷の物性を利用した分離分析法
- Ni/SiOX/n-Si(111)系におけるcharge transferとCO吸着 (第26回真空に関する連合講演会プロシ-ディングス--昭和60年11月6日〜8日,東京)
- PEG水溶液におけるイオンの溶媒和構造と溶媒和エネルギー