立石 文和 | デバイス工法開発研究所

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概要

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論文 | ランダム

• 選択Al CVD配線形成技術
• 窒化ケイ素 - 金属シリコン直接窒化法
• シリコンデバイス,プロセス,生産技術の進展より見た0.25μm技術時代のシリコンウェ-ハ〔英文〕
• 再結晶シリコンカ-バイド電極-1-水溶中における酸-塩基および酸化-還元滴定の指示電極〔英文〕
• 種々のpHの溶液中における再結晶炭化シリコン電極の挙動〔英文〕

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