高橋 一彰 | industria 設計開発G

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概要

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論文 | ランダム

• MgB_2薄膜の上部臨界磁場と不可逆磁場
• KrFレーザー蒸着法による二硼化物超伝導薄膜の作製(エレクトロニクス・一般)
• Bi-2212超電導体の厚さに対する磁束バンドル内の磁束数g^2の依存性
• Bi-2212薄膜における不可逆磁界の厚み依存性
• La_Sr_CuO_4を用いたランプエッジ型ジョセフソン接合の作製

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