佐々木 幹夫 | セイラシステム

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概要

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• セイラシステムの論文著者

論文 | ランダム

• シリコンのエピタキシャル成長による薄膜形成 (身近になったCVD技術)
• シリコン結晶とドーピング : 電子材料シリーズ, 阿部孝夫, 小切間正彦, 谷口研二共著, A5判230ページ, 丸善, 1986年刊, 定価3,800円
• エピタキシャル成長の化学反応 (結晶構造から化学反応へ)
• エレクトロメカニクス用ステンレスばね鋼
• 3a-A-2 GaPホモエピタキシーにおけるらせんタイプのミスフィット転位

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