土屋 和彦 | 関東化学中研

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概要

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関東化学中研 | 論文

• 3V04 新しいネマチック液晶化合物の研究(3) : ROCH_2-を有するフェニル=シクロヘキサンカルボキシレート型液晶化合物の合成と性質
• 3V03 新しいネマチック液晶化合物の研究(2) : 分子末端にアルコキシメチル基を有するフェニルシクロヘキサン型液晶化合物の合成と性質

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