後藤 和也 | 名工大工
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概要
名工大工 | 論文
- 21aGC-8 原子層制御蒸着法により作製されたホイスラー合金薄膜の局所磁性と界面磁性(21aGC 微小領域磁性(薄膜,人工格子,ナノ粒子),領域3(磁性,磁気共鳴))
- 20aPS-12 原子層制御蒸着法で作製したCo_2MnSn薄膜の核共鳴散乱法による局所磁性評価(20aPS 領域3ポスターセッション(薄膜・人工格子・表面・微小領域・スピントロニクス・遍歴・化合物磁性),領域3(磁性,磁気共鳴))
- 28aTF-3 Co_2MnSnホイスラー合金薄膜の局所磁性とトンネル磁気抵抗効果(28aTF 薄膜・バンド計算・理論,領域3(磁性,磁気共鳴))
- 24pWK-3 B2型CoSn人工合金のスピン分極と磁気特性(24pWK 薄膜・人工格子磁性,表面・界面磁性,領域3(磁性,磁気共鳴))
- 25pHF-1 原子層制御交互蒸着法で作製したCo_2FeSnホイスラー合金薄膜の局所磁性および電気伝導特性の評価(25pHF スピントロニクス(スピン注入,スピンダイナミクス),領域3(磁性,磁気共鳴))