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谷 綾子 | 龍谷大学理工学部専任講師
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H_2-N_2系グロー放電プラズマ中の電子エネルギー状態
C-11-1 シリコンナノウォールの作製(C-11.シリコン材料・デバイス,一般セッション)
赤外分光法を用いたアモルファス炭化シリコン膜のその場観察とSiH_4-CH_4プラズマの発光分光分析
シリコン系アモルファス薄膜の熱的構造安定性に関する研究
SiH_4-CH_4系ガスのグロー放電分解により生じるプラズマの発光特性(半導体材料・デバイス)
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