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日比野 浩樹 | NTT物性基礎研究所
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NTT物性基礎研究所 | 論文
GaN系半導体を用いた光・電子デバイス
窒化物ワイドギャップ半導体結晶成長 (特集論文1 窒化物ワイドギャップ半導体電子デバイス)
GaN系ヘテロ構造の電気伝導特性およびFET静特性
表面光吸収法を用いたステップフリー表面・界面の形成
高品質AlN上に成長したGaN層フリー紫外LED
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