栗田 恒雄 | 産業技術総合研究所 先進製造プロセス研究部門

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概要

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• 産業技術総合研究所 先進製造プロセス研究部門の論文著者

論文 | ランダム

• 28a-ZC-3 低周波雑音特性を用いた半導体の光吸収係数の推定
• 28p-C-4 半導体中のキャリア生成雑音スペクトル
• 接合型Siフォトダイオードの低周波雑音
• 28p-ZM-14 GaAsショットキー光ダイオードの低周波雑音
• 30a-TC-5 半導体中の生成電流スペクトル

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