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井上 拓也 | 関西大 システム理工学部 機械工学科
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4p-L-6 不純物伝導領域におけるピエゾ抵抗効果
10p-A-6 Geの不純物伝導領域におけるピエゾ磁気抵抗効果
イオン衝撃及び焼俣しによるゲルマニウム表面の格子欠陥 : 半導体
イオン衝撃による清浄Ge表面の伝導 : 半導体
9a-M-5 Geの表面伝導
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