Jiang Peng | Florida大
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概要
論文 | ランダム
- SiH_4-N_2プラズマ中におけるN_2ラジカルの発光特性
- 原料ガス分離分解型プラズマCVD法により生じるH_2-N_2プラズマ状態の解析
- C-11-2 原料ガス分離分解型プラズマCVD法を用いたa-SiN:H薄膜の作製(C-11. シリコン材料・デバイス, エレクトロニクス2)
- 原料ガス分離分解型プラズマCVD法により作製したa-SiC:H膜の光学的特性
- 水素化アモルファスシリコンと金属間の界面反応とシリサイドの形成機構