Hida Akira | Advanced Device Laboratory, RIKEN, Wako, Saitama 351-0198, Japan.
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概要
論文 | ランダム
- 極薄膜MOSFET/SIMOXのソース・ドレイン上に形成したW層の寄生バイポーラ効果への影響
- ソース/ドレイン上に選択W層を形成した1/4ミクロン級極薄膜MOSFET/SIMOXの特性
- 糖尿病患者における涙液分泌の減少
- 水素パッシベーションによるp^+-SiのHF処理特性改善とそのW選択成長への応用
- 小切開眼内レンズ挿入術後の日和見感染により生じた細菌性角膜炎の1症例