越川 博元 | 京都大学大学院工学研究科環境工学専
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概要
論文 | ランダム
- 2枚マスクによるトップゲート構造塗布型有機トランジスタ(ディスプレイに関する技術全般,LCD(バックライトを含む),PDP,有機/無機EL,CRT,FED,VFD,LEDなどのディスプレイに関するデバイス,部品・材料及び応用技術,発光型/非発光型ディスプレイ合同研究会)
- マスク基板の検査技術を進化させた大型フォトマスク基板欠陥検査装置 (特集 最新のFPD(ガラス)基板の材料設計と加工・検査技術)
- 光ナノインプリント用モールド製造への半導体フォトマスク技術の活用 (マテリアルフォーカス:エレクトロニクス 継ぎ目なしにパターン転写できるか?柔らかい媒体に転写可能か? HDD/FDP/LED/半導体/電池など,様々な用途が期待できる ナノインプリントのマテリアル,装置と離型性・安定性の克服に向けた課題)
- 45nmノード対応フォトマスク欠陥修正装置 (全冊特集 新材料の導入と半導体製造装置) -- (半導体製造装置・周辺機器)
- フォトポリマーとマスク間距離が格子形成に及ぼす影響(光機能性有機材料・デバイス,光非線形現象,一般)
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