玉川 憲 | 日本アイ·ビー·エム株式会社 東京基礎研究所

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概要

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• 日本アイ·ビー·エム株式会社 東京基礎研究所の論文著者

論文 | ランダム

• CIRP2003参加報告
• 316 ステンレス鋼の ELID 研削特性および表面性状評価
• CIRP2003参加報告 (特集 国際会議レビュー)
• AC電圧印加状態で高分子安定化処理を施した時のVHR及び電流応答特性
• UV硬化型液晶性モノマーを添加して高分子安定化処理をしたネマティック液晶セルの電圧保持率特性

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